SOIウェーハ

MEMSに特化したSOIウェーハ

MSRの提供するSOIウェーハはMEMSデバイス向けに特化した各種構造体のSOIウェーハを提供いたします。
貼り合わせ・研削研磨法による製造で活性層厚さ0.9±0.2μmまでのSOIウェーハ製造の実績があります。

少量・短納期をご希望の場合は余剰在庫SOIウェーハからお選びいただけます。在庫リストはには常時およそ1000種類以上のSOIウェーハを毎月2回更新管理し2週間以内に貴社工場まで配達サービスいたします。在庫SOIウェーハは1枚からでも注文を受け付けます。

SOI在庫リストはご要望に応じてお送りいたします。お申し付け下さい。

光通信用SOIウェーハ

光通信用光導波路をアプリケーションとした薄膜SOIウェーハ製造を承ります。
埋込酸化膜は3〜5μm、光導波路用薄膜活性層は100〜500nmを形成いたします。


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